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Temperature Profiling in Industrial Coatings

PVD-Beschichtung

Die physikalische Gasabscheidung (PVD) ist ein High-Tech-Beschichtungsverfahren, das bei der Herstellung von Premium-Konsumgütern, Schmuck und Medizinprodukten zur Anwendung kommt. Die PVD erzeugt harte und dünne Beschichtungen, die in einer Vakuumkammer nicht aus einer chemikalischen sondern aus einer physikalischen Quelle abgeschieden werden. Die Beschichtung selbst erfolgt durch Sputtern (Kathodenzerstäubung). Dabei werden Atome aus den oberen Schichten eines Festkörpers durch Beschuss mit energiereichen Ionen oder neutralen Partikeln herausgelöst. Das Sputtern ist ein äußerst flexibles Beschichtungsverfahren, das für praktisch alle Materialien genutzt werden kann.

Anwendung benötigt 

Beim PVD-Prozess ist die Temperatur in der Vakuumkammer sorgfältig zu kontrollieren. Hierbei kommt es darauf an, die Temperatur der Produktoberfläche auf einem spezifizierten Wert zu halten. Nur so können die Oberflächenqualität garantiert und der Schutz und das attraktive Aussehen des Produkts sichergestellt werden.

Wie können wir Ihnen helfen? 
  • Korrekte Temperaturregelung in der Vakuumkammer zur Gewährleistung der gewünschten Haftung der Oberflächenbeschichtung.
  • Nutzung der Profilkurven zur präzisen und effizienten Einrichtung von Prozessen für neue Produkte und Beschichtungen.
  • Lückenlos zertifizierte und rückverfolgbare Temperaturprofile, die im Rahmen regulatorischer Vorgaben zum Nachweis der Prozessregelung nutzbar sind.
Temperaturprofilsysteme
  • Das in die PVD-Kammer eingebrachte Datapaq-System vermeidet die mit Schlepp-Thermoelementen verbundenen Probleme.
  • Dichter und polierter Hitzeschutzbehälter verhindert Ausgasen und Kontamination der Vakuumkammer.
  • Isolierte MI-Messköpfe gewährleisten selbst in Umgebung hoher Spannungen rauschfreie Messungen.

Literatur und andere Reccourcen

Erfahren Sie mehr über die Lösungen von Fluke Process Instruments für diese Anwendung